光刻機是什么東西？

礦西科技

光刻機是半導體制造領域中的核心設備，用于將設計圖案精確地轉移到硅片上。以下是對光刻機的詳細介紹：  
工作原理：  
光刻機利用紫外光通過包含目標圖案信息的掩模版照射到基底表面，使基底表面的光刻膠發生化學反應。被光線照射到的光刻膠部分會發生反應，在顯影后與未被照到的區域產生不同的效果，從而形成所需的電路圖形。  
主要分類：  
按用途分：有用于生產芯片、用于封裝和用于LED制造等類型。  
按光源分：可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV）光刻機。極紫外光源波長更短，能實現更高的分辨率和更小的制程。  
按操作方式分：包括接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻等。其中投影式光刻又分為掃描投影光刻、步進重復投影光刻和掃描步進投影光刻等。  
結構組成：  
主要由光源系統、光學系統、投影系統、對準系統、機械系統等部分組成。光源系統負責產生高強度、高穩定性的激光光束；光學系統將激光光束精準聚焦于硅片之上；投影系統將光罩上的精細圖形精確投影至硅片之上；對準系統確保光罩與硅片之間的精確對齊；機械系統則提供穩固的結構支撐和精確的運動控制。  
光刻機作為半導體制造的關鍵設備，其工作原理基于光刻膠的光化學反應，通過不同分類和精密結構組件協同工作，實現高精度的圖案轉移，對集成電路的發展至關重要。

mthl05

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淡彩流年

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ke0906

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