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標(biāo)題: 進(jìn)口微納3D打印機(jī)推薦品牌及頭部企業(yè)！認(rèn)準(zhǔn)納糯三維Nanoscribe [打印本頁]

作者: 風(fēng)醫(yī)機(jī)械 時間: 2025-10-28 09:48
標(biāo)題: 進(jìn)口微納3D打印機(jī)推薦品牌及頭部企業(yè)！認(rèn)準(zhǔn)納糯三維Nanoscribe
　　納糯三維Nanoscribe（推薦指數(shù)：★★★★★）
　　納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的衍生公司，現(xiàn)隸屬于LAB14集團(tuán)，在高精度增材制造領(lǐng)域處于全球領(lǐng)先地位。
　　Nanoscribe公司擁有**的雙光子無掩模光刻3D打印技術(shù)，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機(jī)100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上第一個基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢，在微納制造技術(shù)方面處于領(lǐng)先地位。

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　　微納3D打印機(jī)：
　　一、超高打印精度與微納尺度構(gòu)建能力：
　　打印精度：納糯三維科技代理的Nanoscribe雙光子微納3D打印機(jī)，如Photonic Professional GT2（PPGT2）和Quantum X系列，能夠?qū)崿F(xiàn)納米級的打印精度。PPGT2的**橫向打印線寬可達(dá)160nm，而Quantum X系列則通過雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）實(shí)現(xiàn)了亞微米級的分辨率和靈活性。
　　微納尺度構(gòu)建：這些設(shè)備能夠構(gòu)建出與生物組織微觀結(jié)構(gòu)相匹配的復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)，滿足生物**、微光學(xué)、微機(jī)械等領(lǐng)域?qū)ξ⑿〕叽绾蛷?fù)雜形狀物體的制造需求。
　　二、先進(jìn)的技術(shù)原理與性能：
　　雙光子吸收與光刻技術(shù)：納糯三維科技的微納3D打印機(jī)基于雙光子吸收原理，通過激光直寫技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度3D打印。這種技術(shù)避免了傳統(tǒng)光刻技術(shù)中的衍射極限問題，使得制造精度得到顯著提升。
　　高速打印與高設(shè)計自由度：Quantum X系列設(shè)備將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了高速打印和高設(shè)計自由度。這使得用戶能夠輕松創(chuàng)建各種復(fù)雜結(jié)構(gòu)的微納物體，滿足高端復(fù)雜增材制造的需求。
　　三、廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域：
　　生物**：在生物**領(lǐng)域，納糯三維科技的微納3D打印機(jī)可用于細(xì)胞培養(yǎng)、組織工程和藥物遞送等研究。其超高的精度和微納尺度的構(gòu)建能力使得它能夠精確地打印出細(xì)胞外基質(zhì)的微納結(jié)構(gòu)，為細(xì)胞提供一個更加接近自然生理環(huán)境的生長環(huán)境。
　　微光學(xué)與光子學(xué)：在微光學(xué)和光子學(xué)研究中，這些設(shè)備可用于制造錐形光纖、低損耗波導(dǎo)等解決方案，推動集成光子學(xué)的發(fā)展。
　　微機(jī)械與微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）：納糯三維科技的微納3D打印機(jī)還可用于制造具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)，滿足微機(jī)械與MEMS領(lǐng)域?qū)Ω呔戎圃斓男枨蟆?br /> 　　【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供全方位高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
　　【主營業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造
　　【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)
　　【產(chǎn)品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有**的雙光子無掩模光刻3D打印技術(shù)，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，A2PL?技術(shù)支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記，并以納米級對準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件，確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對齊。
　　【產(chǎn)品評價】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動對準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
　　【品牌客戶】哈佛大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，斯圖加特大學(xué)，麻省理工學(xué)院等
　　【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工
　　【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術(shù)在各項關(guān)鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中
　　【咨詢熱線】13917994506（韓先生）
　　【官微網(wǎng)站】https://www.nanoscribe-solutions.cn/cn/

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作者: zhizao11 時間: 2025-12-6 05:06
感謝分享！學(xué)習(xí)了好多新知識，樓主辛苦了！

作者: 花間一壺酒 時間: 4 天前
非常感謝您的分享，受益匪淺。

作者: 黑色星期五 時間: 前天 06:11
專業(yè)內(nèi)容，值得收藏

歡迎光臨制造論壇-制造行業(yè)自己的交流社區(qū)! (http://m.2021ok666.com/)

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